一、原子層沉積設備廠(chǎng)家核心參數：  

價(jià)格區間：100萬(wàn)-200萬(wàn)  

產(chǎn)地類(lèi)別：國產(chǎn)原子層沉積系統（ALD）  

襯底尺寸：10g-1000g粉末  

工藝溫度：RT-300℃  

前驅體數：2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅體  

重量：300KG  

尺寸(WxHxD)：1150*1030*1850mm  

均勻性：在粉末表面實(shí)現均勻原子層包覆,包覆均一性<3%  

二、原子層沉積（Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù)，具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。  

三、原子層沉積設備廠(chǎng)家產(chǎn)品描述：  

廈門(mén)韞茂科技公司的GM系列自動(dòng)粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實(shí)現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長(cháng)，GM1000的反應室可自動(dòng)運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積)，設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統，保證工藝溫度均勻。該系統具有粉末樣品桶、動(dòng)態(tài)粉末流化機構、全自動(dòng)溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級安全控制，以及現場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具。  

四、售后服務(wù)：  

保修期：1年  

是否可延長(cháng)保修期：否  

現場(chǎng)技術(shù)咨詢(xún)：有  

免費培訓：1.設備出廠(chǎng)前，提供至少2人一周的設備原廠(chǎng)培訓。2.設備在現場(chǎng)完成安裝調試  

免費儀器保養：有需要可安排  

保內維修承諾：保修期內（除天災和人為損害外）部件、元件費用、出差費用均由我司承擔

報修承諾：質(zhì)保期內出現故障時(shí)我司將及時(shí)響應，并在8小時(shí)內派技術(shù)人員到現場(chǎng)解決故障  

五、技術(shù)參數：