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簡(jiǎn)要描述:桌面式原子層沉積系統PALD廠(chǎng)家(Atomic layer deposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。
產(chǎn)品分類(lèi)
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一、核心參數:
價(jià)格區間:10萬(wàn)-50萬(wàn)
產(chǎn)地類(lèi)別:國產(chǎn)原子層沉積系統(ALD)
襯底尺寸:4寸
工藝溫度:RT-300℃
前驅體數:4組液態(tài)或固態(tài)前驅體
重量:40KG
尺寸(WxHxD):500*400*400mm
均勻性:99.9%
二、原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。
三、桌面式原子層沉積系統PALD廠(chǎng)家產(chǎn)品描述:
廈門(mén)韞茂科技公司研發(fā)的超小型桌式ALD原子層沉積設備是*材料研究的有力設備之一,它可以在4寸晶元(向下兼容)和微納米粉體上實(shí)現均勻可控的原子層沉積,具有廣泛的應用領(lǐng)域,設各配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統,保證工藝溫度均勻,該系統具有粉末樣品桶、晶元載盤(pán),全自動(dòng)溫控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級安全控制,以及現場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項,是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具
四、廈門(mén)韞茂科技有限公司為您提供桌面式原子層沉積系統PALD廠(chǎng)家的參數、價(jià)格、型號、原理等信息,產(chǎn)地為福建、品牌為韞茂,型號為MiniDesktopALD,價(jià)格為50萬(wàn)RMB,更多相關(guān)信息可咨詢(xún),公司客服電話(huà)7*24小時(shí)為您服務(wù)。
五、售后服務(wù):
保修期:1年
是否可延長(cháng)保修期:否
現場(chǎng)技術(shù)咨詢(xún):有
免費培訓:1.設備出廠(chǎng)前,提供至少2人一周的設備原廠(chǎng)培訓。2.設備在現場(chǎng)完成安裝調試
免費儀器保養:有需要可安排
保內維修承諾:保修期內(除天災和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔
報修承諾:質(zhì)保期內出現故障時(shí)我司將及時(shí)響應,并在8小時(shí)內派技術(shù)人員到現場(chǎng)解決故障
六、技術(shù)參數:
產(chǎn)品咨詢(xún)
電子郵箱:[email protected]
公司地址:廈門(mén)市集美區集美北大道1068-6號安仁產(chǎn)業(yè)園
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