當前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導體行業(yè)專(zhuān)用儀器 > PALD > GM100/1000粉末原子層沉積設備
簡(jiǎn)要描述:粉體包覆(Atomic layer deposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。
產(chǎn)品分類(lèi)
Product classification相關(guān)文章
RELATED ARTICLES詳細介紹
一、粉體包覆核心參數:
產(chǎn)地類(lèi)別:國產(chǎn)原子層沉積系統(ALD)
襯底尺寸:100g-1000g粉末
工藝溫度:RT-300℃
前驅體數:2組反應氣體8組液態(tài)或固態(tài)反應前驅體
重量:300KG
尺寸(WxHxD):1150*1030*1850mm
均勻性:在粉末表面實(shí)現均勻原子層包覆,包覆均一性<3%
二、原子層沉積(Atomiclayerdeposition)是通過(guò)將氣相前驅體脈沖交替地通入反應腔體內并在沉積基體上化學(xué)吸附并反應而形成沉積膜的一種技術(shù),具有自限性和自飽和。原子層沉積技術(shù)主要應用是在各種尺寸和形狀的基底上沉積高精度、無(wú)針孔、高保形的納米薄膜。
三、粉體包覆產(chǎn)品描述:
廈門(mén)韞茂科技公司的GM系列自動(dòng)粉末原子層沉積設備它可以在微納米粉體上實(shí)現均勻可控的原子層沉積或分子層沉積生長(cháng),GM1000的反應室可自動(dòng)運行ALD(原子層沉積)或MLD(分子層沉積),設備配有獨立控制的300℃完整加熱反應腔室系統,保證工藝溫度均勻。該系統具有粉末樣品桶、動(dòng)態(tài)粉末流化機構、全自動(dòng)溫度控制、ALD前驅體源鋼瓶、自動(dòng)溫度控制閥、工業(yè)級安全控制,以及現場(chǎng)RGA、QCM、臭氧發(fā)生器、手套箱等設計選項。是*能源材料、催化劑材料、新型納米材料研究與應用的最佳研發(fā)工具。
四、售后服務(wù):
保修期:1年
是否可延長(cháng)保修期:否
現場(chǎng)技術(shù)咨詢(xún):有
免費培訓:1.設備出廠(chǎng)前,提供至少2人一周的設備原廠(chǎng)培訓。2.設備在現場(chǎng)完成安裝調試
免費儀器保養:有需要可安排
保內維修承諾:保修期內(除天災和人為損害外)部件、元件費用、出差費用均由我司承擔
報修承諾:質(zhì)保期內出現故障時(shí)我司將及時(shí)響應,并在8小時(shí)內派技術(shù)人員到現場(chǎng)解決故障
五、技術(shù)參數:
產(chǎn)品咨詢(xún)
電子郵箱:[email protected]
公司地址:廈門(mén)市集美區集美北大道1068-6號安仁產(chǎn)業(yè)園
業(yè)務(wù)咨詢(xún)微信
微信掃一掃